科学家们目前最令人信服的证据一个原子层硅

一个原子层的硅-物质称为silicene也许已经创建了第一次。如果完全驯服,这种材料可能与石墨烯的有用的电特性。也可以更容易与普通硅基集成电路,意义super-miniaturised电子设备可以加速的发展。

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Silicene可以更容易融入硅电路

在过去的十年里,世界各地的研究小组发表了大量的论文,称每个silicene准备。但据柏林技术大学的帕特里克·沃格特,德国,并从史di Paola De帕多瓦德拉Struttura斜纹布在意大利的最新努力合成材料,这些团体提供充分证据表明存在的材料。

沃格特说,以前的问题的报道silicene是他们只提供扫描隧道显微镜(STM)的图片作为证据材料的存在。“很难得出结论从STM图像,”他说。德帕多瓦说前面的说法是“高度怀疑”。沃格特和德帕多瓦——失败——试图复制竞争对手的一篇论文中描述的工作。1这篇论文报道silicon-silicon原子几乎不可能短的距离,沃格特说。

简单使用的新工作蒸汽沉积技术发展上的一个原子硅层银晶体表面。2我们看了看化学结构,材料的电子产品和尺寸我们生产的,如果你把所有这些观察你可以确保你在看silicene,”沃格特说。观察到的结构参数,如键角和长度,极好地匹配密度泛函理论计算。

沃格特说,很难预测‘好’silicene可能与石墨烯相比,电子产品。我们非常初看这个材料,”他说,“和也有其他的选择。它可能是值得一看锗,这将给germanicene。”

安德烈•Khlobystov副教授在诺丁汉大学无机化学,英国表示,“人们正努力将石墨烯集成到电子设备”并同意“承诺”,silicene可能绕开这一问题。如果你看细节的实验和理论计算,[silicene]不是平的——它的波纹,”他补充说。出于这个原因,你所期望的完全不同的电子和结构属性从石墨烯。但令人惊讶的是,对我来说,本文认为,属性会非常相似,用电导率,没有带隙和电荷的移动运营商。Khlobystov说下一个重要步骤是衡量金属材料的属性不支持。

Josh Howgego