应用说明:商业CMP样品中的添加剂定量

化学机械抛光(CMP)或平面化泥浆用于半导体工业，在各种电子产品的结构中在硅片上创建特定的表面。为了保持浆料的质量，使用了许多化学添加剂。分析方法需要确保CMP浆料的质量，大多数方法需要复杂的样品制备和多种技术来实现结果。电弧高效液相色谱PDA和ACQUITY QDa检测器是一个简单和常规的分析选项。

本应用说明提供了一个实验证明，15分钟常规方法的分析已知CMP浆料添加剂与最小的样品准备。现在下载了解更多关于…

• 使用Arc高效液相色谱系统，常规分离方法，能够在系统内更新方法，使用光电二极管阵列高效液相色谱和质谱检测UHPLC对添加剂进行定量，无需重新验证
• 坚固的XBridge BEH柱能够在不影响柱床的情况下应用于低压和高压
• ACQUITY QDa质量检测使您的检测结果更有信心
• 使用Empower 3色谱数据系统(CDS)对PDA, QDa和所有Waters Arc HPLC兼容检测器进行数据分析